4 February, 2008, Москва — Академия конъюнктуры промышленных рынков | 1377
Медиа и СМИ
Версия для печати | Отправить @mail | Метки
Профессор То-Минг Лу (Toh-Ming Lu) и его коллеги из политехнического института Ренслеера и компании Polyset Company разработали новый недорогой быстрозастывающий полимер PES (polyset epoxy siloxane), который может привести к значительному удешевлению и повышению эффективности процесса производства полупроводников и изготовления микросхем.
Одним из этапов процесса фотолитографии является нанесение тонкой полимерной пленки - слоя перераспределения - на кремниевую подложку, который способствует распространению сигнала и защищает микросхему от воздействия внешних факторов. В качестве полимера для изготовления слоя перераспределения может использоваться PES, который к тому же обладает еще одним полезным свойством - он может также применяться и для технологии нанопечати.
Новый полимер отвердевает при температуре 165 градусах Цельсия, что на 35% ниже по сравнению с другими материалами, использующимися в фотолитографии. Кроме того, он обладает низким водопоглощением и высокой адгерзией к меди. PES может также использоваться для изготовления оптических приборов, индикаторных панелей и микроэлектромеханических систем.
www.e-plastic.ru, 30 января 2008
Источник: «NEWCHEMISTRY.ru» - аналитический портал химической промышленности
www.newchemistry.ru
Хотите разместить свой пресс-релиз на этом сайте? Узнать детали